全反射X射線由X射線激發(fā)源、全反射光路系統(tǒng)、探測器、放大器、脈沖高度分析器和配置的計算機組成。主要是利用全反射將激發(fā)源一次X射線在樣品上由散射引起的背景大大降低，故精度很高。它檢測靈敏度高，可達納克級以上（10-9¬——10-12g），定量分析簡單，無集體效應操作簡單。
由于TXRF分析技術用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強或減弱效應，不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內標法，對環(huán)境溫度等要求很低。因而在簡便性、經濟性、用樣量少等方面，都比WXRF方法有明顯的*性。
在元素分析領域內的應用現狀和發(fā)展前景都是令人鼓舞的。它可以廣泛應用于地礦、冶金、化工、食品、生物、醫(yī)藥、環(huán)保、法檢、考古、高純材料等等各領域內的常量、微量、痕量元素分析測定。特別在半導體工業(yè)中的硅片表面質量控制方面，有著不可替代的優(yōu)勢，目前已在國際上得到廣泛應用。
1、地礦：金礦、銅精料和鎳精料、螢石、長石、氧化銻；
2、冶金：鎳電解液、銅陽極泥、高冰鎳中的貴金屬、光譜純Rh、金銀首飾、鑄鐵、軸承；
3、化工：柴油中的硫含量，各種催化劑，陶瓷釉藥；
4、環(huán)境保護：自來水、大氣飄塵、污水污泥；
5、生物：海洋動物牙齒和體液；
6、醫(yī)藥：頭發(fā)和指甲中的有益有害元素，丹參中有害微量元素；
7、食品：飲料中有益和有害元素；
8、刑偵法醫(yī)：撞車現場樣品鑒定。
